等离子体刻蚀工艺及设备

本书以集成电路领域中的等离子体刻蚀为切，介绍了等离子体基础知识、基于等离子体的刻蚀技术、等离子体刻蚀设备及其在集成电路中的应用。全书共8章，内容包括集成电路简介、等离子体基本原理、集成电路制造中的等离子体刻蚀工艺、集成电路封装中的等离子体刻蚀工艺、等离子体刻蚀机、等离子体测试和表征、等离子体仿真、颗粒控制和量产。本书对从事等离子体刻蚀基础研究和集成电路工厂产品刻蚀工艺调试的人员均有一定的参考价值。
【作者】
赵晋荣，北京北方华创微电子装备有限公司董事长，教授级高工，北京学者。赵晋荣同志从事集成电路装备行业37年，主导实施了多项国家科技攻关项目，项目成果填补多项国内空白。曾获得国家科技步二等奖、国家科技重大专项“突出贡献奖”、“北京市劳动模范”等多项荣誉，选国家百千万人才工程、科技北京百名领军人才等多项人才计划。