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三维集成电路制造技术电子书

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作       者:王文武

出  版  社:电子工业出版社

出版时间:2022-08-01

字       数:32.3万

所属分类: 科技 > 工业技术 > 航空/电子

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目前,集成电路器件特征尺寸越来越近物理极限,集成电路技术已朝着三维集成、提升性能/功耗比的新技术路线发展。本书立足于全球集成电路技术发展的趋势和技术路线,结合中国科学院微电子研究所积累的研究发经验,系统介绍了三维集成电路制造工艺、FinFET和纳米环栅器件、三维NAND闪存、新型存储器件、三维单片集成、三维封装等关键核心技术。 本书注重技术的前瞻性和内容的实用性,可供集成电路制造领域的科研人员和工程技术人员阅读使用,也可作为高等学校相关专业的教学用书。<br/>【作者】<br/>王文武博士,现任中国科学院微电子研究所副所长、研究员、博士生导师。2006年于日本东京大学获得工学博士学位。长期致力于集成电路先工艺与器件技术研究,带领团队参与了22 nm、14 nm、5 nm工艺集成电路先导技术研发工作,获中国科学院杰出科技成就奖(研究集体)、北京市科学技术一等奖、中国电子信息科技创新团队奖、国务院政府特殊津贴等科技奖励和荣誉。先后主持多项科研任务,包括国家科技重大专项、863计划、国家自然科学基金重大科研仪器研制/重/面上等项目(课题)。在IEEE EDL/TED、APL等国际权威期刊、会议上发表学术论文200多篇,授权发明专利57项。担任国家“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”科技重大专项专家组成员,国家重研发计划“重大科学仪器设备发”重专项专家组成员,智能传感功能材料国家重实验室学术委员会委员,北京集成电路装备创新中心专家委员会特聘专家等。<br/>
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内容简介

“集成电路系列丛书”编委会

编委会秘书处

出版委员会

“集成电路系列丛书·集成电路制造”编委会

“集成电路系列丛书”主编序言

前言

作者简介

第1章 绪论

1.1 集成电路发展历程

1.2 三维集成技术发展趋势

1.3 三维集成技术面临的挑战

1.4 阅读指引

参考文献

第2章 三维集成电路制造基础

2.1 三维器件模型

2.2 三维器件光刻工艺

2.3 三维器件薄膜工艺

2.4 三维器件刻蚀工艺

2.5 三维器件离子注入与热退火工艺

2.6 三维器件清洗工艺

2.7 三维器件化学机械平坦化工艺

参考文献

第3章 三维FinFET器件技术

3.1 三维FinFET器件

3.2 三维FinFET关键技术模块

3.3 集成工艺与特性优化

3.4 新型FinFET器件

参考文献

第4章 纳米环栅器件技术

4.1 纳米环栅器件

4.2 纳米环栅器件关键技术模块

4.3 纳米环栅器件集成工艺

参考文献

第5章 三维NAND闪存技术

5.1 三维NAND闪存器件及结构

5.2 集成工艺及关键技术模块

5.3 三维NAND工作特性及可靠性

5.4 三维NAND国内外进展

参考文献

第6章 三维新型存储技术

6.1 三维RRAM集成技术

6.2 三维MRAM集成技术

6.3 三维PCRAM集成技术

6.4 三维DRAM集成技术

参考文献

第7章 三维单片集成技术

7.1 三维单片集成

7.2 三维单片同质集成技术

7.3 三维单片异质集成技术

7.4 新型三维集成系统

参考文献

第8章 三维封装技术

8.1 Si基转接板及2.5D/3D封装技术

8.2 晶圆级扇出型封装技术

8.3 基板及埋入封装技术

参考文献

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