电感耦合等离子体光谱与质谱分析技术电子书

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内容提要

前言

第1章　概述

1.1　等离子体的概念、特性及类型

1.1.1　等离子体的概念

1.1.2　等离子体的物理特性^([1])

1.1.3　等离子体的类型

1.2　无机分析中的等离子体概念

1.3　无机分析中的电感耦合等离子体

1.4　电感耦合等离子体光谱与质谱分析技术

1.4.1　ICP-OES的分析特点

1.4.2　ICP-MS的分析特点

第2章　电感耦合等离子体

2.1　电感耦合等离子体的生成

2.1.1　ICP焰炬的形成过程

2.1.2　ICP焰炬的形成条件

2.1.3　ICP焰炬形状与趋肤效应

2.1.4　ICP焰炬形状与高频频率

2.2　ICP的炬管结构及工作气体

2.2.1　ICP的炬管结构

2.2.2　ICP的工作气体

2.3　ICP光源、离子源及焰炬的特性

2.3.1　ICP光源的特性

2.3.2　ICP离子源的特性

2.3.3　ICP焰炬的温度特性及分布

2.4　ICP光谱光源与质谱离子源的异同

2.4.1　ICP光谱激发光源的分析特性

2.4.2　ICP质谱离子源的分析特性

2.5　光谱光源与质谱离子源的分析特点及互补性

2.5.1　ICP-OES分析的依据及过程

2.5.2　ICP-OES分析方法的优点与不足

2.5.3　ICP-MS分析的依据及过程

2.5.4　ICP-MS分析方法的优点与不足

2.5.5　ICP-OES/MS的互补性

第3章　ICP-OES/MS分析的仪器设备

3.1　ICP-OES/MS的通用设备

3.1.1　高频发生器

3.1.2　等离子体炬管

3.1.3　进样系统

3.2　ICP-OES分析仪器设备

3.2.1　激发光源

3.2.2　分光系统

3.2.3　检测系统

3.2.4　计算机及电控系统

3.2.5　光谱干扰校正系统

3.2.6　ICP-OES仪器性能的要求和判断

3.3　ICP-MS分析仪器设备

3.3.1　ICP离子源

3.3.2　接口及离子光学系统

3.3.3　四极杆质量分析器

3.3.4　质谱干扰消除系统

3.3.5　离子检测器

3.3.6　数据处理系统

3.3.7　辅助系统

3.3.8　ICP-MS仪器性能要求及测试方法

3.4　ICP-OES/MS分析的常规仪器

3.4.1　常规ICP-OES商品仪器

3.4.2　常规ICP-MS商品仪器

第 4章　ICP-OES/MS分析的进样方式与标准制备

4.1　进样方式

4.1.1　液体进样方式

4.1.2　固体进样方式

4.1.3　气体进样方式

4.1.4　其他进样方式

4.2　样品前处理

4.2.1　分析样品要求

4.2.2　分析用试剂

4.2.3　分析试液的制备

4.2.4　各种类型试样的分析试液制备

4.2.5　形态分析样品的前处理

4.3　标准溶液制备

第5章　ICP-OES分析操作技术

5.1　实验准备

5.1.1　ICP-OES进样装置设定

5.1.2　分析试样的准备

5.1.3　标准校正样品的选择

5.1.4　ICP-OES分析程序文件的设定

5.2　仪器操作

5.2.1　日常分析操作事项

5.2.2　ICP-OES仪器主要操作条件的选择

5.2.3　仪器检定与维护

5.2.4　样品分析结果的质量控制

5.3　ICP-OES的分析测定方法

5.3.1　多元素直接测定

5.3.2　分离-富集测定

5.3.3　无机物料的测定

5.3.4　有机物料测定

5.4　ICP-OES应用技巧

5.4.1　仪器选用

5.4.2　分析方法选用

5.4.3　仪器应用扩展

5.5　ICP-OES法在各个领域中的应用

5.5.1　在无机材料及化合物分析中的应用

5.5.2　在地质资源与矿物材料分析中的应用

5.5.3　在水质、环境样品分析中的应用

5.5.4　在生化样品与药物分析中的应用

5.5.5　在石油化工产品及能源样品分析中的应用

5.5.6　在食品分析中的应用

5.5.7　在元素形态分析中的应用

5.5.8　在电子电器、轻工产品分析中的应用

第6章　ICP-MS分析操作技术

6.1　实验准备

6.1.1　ICP-MS进样装置设定

6.1.2　质谱分析样品前处理

6.1.3　质谱分析用校正样品选择

6.1.4　ICP-MS测定方法的建立

6.2　仪器操作

6.2.1　仪器操作及使用要求

6.2.2　分析操作条件的设定

6.2.3　分析方法建立及标准曲线绘制

6.2.4　样品分析及结果质量控制

6.2.5　仪器检定与维护

6.3　ICP-MS分析方法

6.3.1　ICP-MS元素含量及同位素比值分析

6.3.2　元素形态分析技术

6.3.3　单颗粒分析技术

6.3.4　分析通则

6.4　ICP-MS分析准确度影响因素及解决办法

6.4.1　ICP-MS分析准确度检验方法

6.4.2　样品处理过程的影响及解决办法

6.4.3　样品分析测定过程的影响

6.4.4　分析方法的选择及可靠性的判断方法

6.5　ICP-MS在无机分析上的应用技巧

6.5.1　仪器选用

6.5.2　分析方法采用

6.5.3　仪器应用扩展

6.6　ICP-MS在各个领域中的应用

6.6.1　在地质和矿物样品分析中的应用

6.6.2　在金属材料及金属氧化物分析中的应用

6.6.3　在环境样品分析中的应用

6.6.4　在食品医药和生化样品分析中的应用

6.6.5　在有机产品分析中的应用

6.6.6　在元素价态和形态分析中的应用

6.6.7　在现场在线分析中的应用

第7章　ICP光谱/ICP质谱仪器进展与应用前景

7.1　ICP光谱分析仪器的进展

7.1.1　ICP发射光谱仪的现状^([86])

7.1.2　ICP光谱分析仪器的技术动态

7.2　ICP质谱分析仪器的进展

7.2.1　碰撞／反应池技术ICP-MS

7.2.2　三重四极杆ICP-MS

7.2.3　应用新进展

7.2.4　展望

7.3　ICP-OES/MS在国家标准及行业标准上的应用

7.3.1　现行的有关ICP-OES标准

7.3.2　现行的有关ICP-MS标准

附录

附录1　ICP-OES分析常用光谱线

附录2　ICP-MS常用分析质量数

附录3　GB/T 34826—2017《四极杆电感耦合等离子体质谱仪性能的测定方法》

参考文献