粉体制备原理与技术电子书

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内容提要

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前言

第1章 概述

1.1 粉体的基本概念

1.1.1 粉体的尺寸

1.1.2 粉体的形态

1.2 粉体制备技术发展简史

1.2.1 古代粉体制备工具

1.2.2 古代粉体制备与应用技术

1.2.3 现代粉体制备技术与设备

1.2.4 现代粉体用途与应用领域

1.2.5 纳米粉体用途与应用领域

第2章 粉体的特性

2.1 粉体的几何性能

2.1.1 单颗粒粒径大小的表示方法

2.1.2 颗粒形状

2.1.3 颗粒群的平均粒径

2.1.4 颗粒群的粒度分布

2.2 粉体的物理性能

2.2.1 粉体的容积密度与填充率

2.2.2 粉体的尺寸效应

2.2.3 表面与界面效应

2.2.4 宏观量子隧道效应

2.2.5 介电限域效应

2.3 粉体的机械力化学性能

2.3.1 概述

2.3.2 粉碎机械力化学作用机理

第3章 机械粉碎法制备粉体原理和技术

3.1 概述

3.1.1 粉碎的基本概念

3.1.2 材料的粉碎机理

3.1.3 粉碎方式及粉碎模型

3.1.4 破碎机械设备简介

3.2 球磨法制备粉体的原理和技术

3.2.1 概述

3.2.2 球磨机

3.2.3 自磨机

3.2.4 附属机械设备——分级设备

3.2.5 球磨法制备粉体的工艺流程

3.2.6 工业中采用球磨法制备粉体的技术实例

3.3 辊压法制备粉体的原理和技术

3.3.1 主机设备——高压辊式磨机

3.3.2 附属设备

3.3.3 辊压法制备粉体的工艺流程

3.4 立磨制备粉体的原理和技术

3.4.1 立磨的历史及发展现状

3.4.2 主机设备——立磨

3.4.3 立磨制备粉体技术应用

3.5 振动磨制备粉体的原理和技术

3.5.1 概述

3.5.2 主要设备介绍

3.5.3 振动磨制粉操作方法

3.6 搅拌磨法制备粉体技术

3.6.1 主要设备介绍

3.6.2 搅拌磨制备粉体工艺与技术

3.7 行星磨法制备粉体技术

3.7.1 概述

3.7.2 行星式球磨机设备介绍

3.7.3 行星式球磨机制备粉料的方法

第4章 气流粉碎法制备超细粉体原理和技术

4.1 主机设备

4.1.1 设备类型与工作原理

4.1.2 对喷式气流磨

4.1.3 扁平式气流磨

4.1.4 循环管式气流磨

4.1.5 靶式气流磨

4.1.6 流化床式气流磨

4.2 气流磨制备粉体技术与应用

第5章 合成法制备超细粉体原理和技术

5.1 概述

5.2 液相合成法

5.2.1 沉淀法

5.2.2 水解法

5.2.3 水热法

5.2.4 溶胶-凝胶（sol-gel）法

5.2.5 微乳液法

5.2.6 冷冻干燥法

5.2.7 喷雾法

5.3 气相合成法

5.3.1 气相中蒸发法

5.3.2 化学气相法

5.4 固相合成法

5.4.1 草酸盐热分解法

5.4.2 固相反应法

第6章 粉体分散原理和技术

6.1 概述

6.2 粉体分散的定义

6.3 超细粉体分散性的评价

6.4 粉体的分散机理

6.4.1 粉体的团聚

6.4.2 分散机理

6.5 分散剂的种类及其作用

6.5.1 分散介质的选择原则

6.5.2 分散剂的选用原则

6.5.3 无机分散剂

6.5.4 有机小分子分散剂

6.5.5 超分散剂

6.6 粉体的分散方法

6.6.1 物理分散法

6.6.2 化学分散法

第7章 粉体表面改性原理和技术

7.1 概述

7.1.1 粉体表面改性的目的

7.1.2 粉体表面改性的研究内容

7.1.3 粉体表面改性技术的发展趋势

7.2 粉体的表面改性剂

7.2.1 偶联剂

7.2.2 表面活性剂

7.2.3 有机硅

7.2.4 不饱和有机酸及有机低聚物

7.2.5 超分散剂

7.2.6 水溶性高分子

7.2.7 无机表面改性剂

7.3 粉体的表面改性方法

7.3.1 物理涂覆

7.3.2 化学包覆

7.3.3 沉积改性

7.3.4 机械力化学改性

7.3.5 微胶囊改性

7.3.6 高能表面改性

7.4 粉体表面改性工艺

7.4.1 干法工艺

7.4.2 湿法工艺

7.4.3 复合工艺

7.5 表面改性设备

7.5.1 干法表面改性设备

7.5.2 湿法表面改性设备

参考文献