TFT-LCD产业是资金密集型和技术密集型产业，需要大量懂技术、有经验的工程师在一线维护工厂的运行、发有竞争力的产品。TFT-LCD产业的发展历史证明，技术人员配备越全面，产业发展势头就越强大。我国TFT-LCD产业较晚，加上国外企业的技术封锁，因此缺少TFT-LCD学习资料。鉴于此，作者于十年前把自己在TFT-LCD行业学习、工作的笔记行了整理，编写了《TFT-LCD原理与设计》一书。该书内容基于TFT-LCD工厂生产实践，将科学原理与工程应用相结合，全面系统地阐述了TFT-LCD的原理与设计。
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内容简介
《国之重器出版工程》编辑委员会
新型显示技术丛书编委会
总序
序言
前言
第1章 绪论
1.1 TFT-LCD的功能结构
1.2 TFT-LCD的基本概念
1.2.1 与物理相关的概念
1.2.2 与光学相关的概念
1.3 TFT-LCD的彩色显示
1.3.1 光的颜色和亮度
1.3.2 色的坐标和温度
1.3.3 彩色显示的基本概念
本章参考文献
第2章 TFT器件技术
2.1 TFT器件基础
2.1.1 TFT器件的种类与结构
2.1.2 TFT器件的开关特性
2.1.3 TFT开关特性的结构设计
2.2 a-Si TFT技术
2.2.1 a-Si半导体特性
2.2.2 a-Si TFT开关特性
2.2.3 a-Si TFT工艺技术
2.2.4 a-Si TFT开关的工艺设计
2.3 LTPS TFT技术
2.3.1 LTPS TFT的分类
2.3.2 LTPS半导体特性
2.3.3 LTPS TFT器件特性
2.3.4 LTPS TFT工艺技术
2.4 IGZO TFT技术
2.4.1 IGZO半导体特性
2.4.2 IGZO TFT器件特性
2.4.3 IGZO TFT可靠性
本章参考文献
第3章 液晶显示基础
3.1 液晶结构
3.2 液晶光学
3.2.1 液晶的光学各向异性
3.2.2 液晶的偏光特性
3.3 液晶电学
3.3.1 液晶的介电各向异性
3.3.2 液晶的V-T特性
3.3.3 液晶的交流驱动
3.4 液晶力学
3.4.1 液晶的黏弹性
3.4.2 液晶动态电容效应
3.5 液晶材料
3.5.1 液晶分子结构与特性
3.5.2 液晶材料的特性要求
3.6 液晶显示模式
3.6.1 TN显示模式
3.6.2 IPS显示模式
3.6.3 VA显示模式
本章参考文献
第4章 TFT-LCD材料技术
4.1 玻璃基板
4.1.1 玻璃基板的制造技术
4.1.2 玻璃基板的使用要求
4.2 导电薄膜
4.2.1 金属导电薄膜
4.2.2 ITO透明导电薄膜
4.3 配向膜
4.3.1 配向膜的材料技术
4.3.2 配向膜的特性要求
4.4 封框胶
4.5 间隙子
4.6 CF基板
4.6.1 CF的材料技术
4.6.2 CF的特性要求
4.7 偏光板
4.7.1 偏光板概述
4.7.2 相位差板
4.7.3 宽视角补偿膜
4.8 电路元件
4.8.1 电学元器件
4.8.2 PCB基板
4.8.3 驱动IC封装方式
4.9 背光源
4.9.1 光源
4.9.2 光学膜片
4.9.3 导光板
本章参考文献
第5章 TFT-LCD工艺技术
5.1 阵列工艺技术
5.1.1 阵列工艺流程
5.1.2 玻璃基板洗净
5.1.3 PVD成膜
5.1.4 PECVD成膜
5.1.5 光刻胶处理
5.1.6 曝光处理
5.1.7 湿刻
5.1.8 干刻
5.1.9 阵列检查工程
5.2 成盒工艺技术
5.2.1 配向膜处理
5.2.2 封框胶涂布
5.2.3 液晶滴下
5.2.4 真空贴合
5.2.5 封框胶硬化
5.2.6 玻璃切断
5.2.7 偏光板贴附
5.2.8 成盒工程检查
5.3 模块工艺技术
5.3.1 外引脚贴合
5.3.2 信号处理基板压接
5.3.3 模块组装
5.3.4 老化实验
5.3.5 模块工程检查
本章参考文献
第6章 TN显示原理与设计
6.1 TN显示原理
6.1.1 TN显示的透光率
6.1.2 TN显示模式的选择
6.1.3 TN显示的光学原理
6.1.4 TN显示的电学原理
6.2 TN像素工作原理
6.2.1 TN像素基本结构
6.2.2 像素中的电容效应
6.2.3 配线延迟效应
6.2.4 灰阶电压写入与保持
6.2.5 TN显示的综合效应
6.3 15XGA的显示屏设计
6.3.1 预设计
6.3.2 TFT侧像素设计
6.3.3 彩膜侧像素设计
6.3.4 显示屏周边设计
6.3.5 显示屏用标记设计
6.4 15XGA的基板相关设计
6.4.1 基板用TEG与标记设计
6.4.2 UV掩膜版和UV基板设计
6.4.3 配向膜印刷版设计
本章参考文献
第7章 IPS显示原理与设计
7.1 IPS显示原理
7.1.1 IPS显示的透光率
7.1.2 IPS显示的光学原理
7.1.3 IPS显示的电学原理
7.2 IPS技术的发展
7.2.1 S-IPS显示技术
7.2.2 AS-IPS显示技术
7.2.3 FFS显示技术
7.2.4 AFFS显示技术
7.3 32HD IPS显示屏设计
7.3.1 IPS像素设计原理
7.3.2 32HD像素设计
7.3.3 32HD显示屏设计
7.4 32UHD FFS显示屏设计
7.4.1 AFFS像素设计原理
7.4.2 32UHD像素设计
7.4.3 32UHD显示屏设计
7.5 IPS残像的机理与对策
7.5.1 IPS残像的机理
7.5.2 离子型不纯物分析
7.5.3 残留DC分析
7.5.4 线残像的机理与对策
本章参考文献
第8章 VA显示原理与设计
8.1 VA显示原理
8.1.1 VA显示的透光率
8.1.2 VA显示的光学原理
8.1.3 VA显示的电学原理
8.2 VA技术的发展
8.2.1 MVA显示技术
8.2.2 PVA显示技术
8.2.3 CPA显示技术
8.2.4 PSVA显示技术
8.2.5 UV2A显示技术
8.3 VA的色偏机理与对策
8.3.1 VA的色偏机理与评价
8.3.2 色偏的8畴改善技术
8.3.3 色偏的其他改善技术
8.4 98QUHD显示屏设计
8.4.1 98QUHD的传统VA像素设计
8.4.2 98QUHD的光配向VA像素设计
8.4.3 98QUHD显示屏设计
本章参考文献
第9章 TFT-LCD驱动技术与设计
9.1 TFT-LCD驱动原理
9.1.1 驱动原理简介
9.1.2 驱动方式
9.1.3 灰阶增强技术
9.2 TFT-LCD电路技术
9.2.1 接口电路
9.2.2 电源电路
9.2.3 时序控制电路
9.2.4 数据驱动电路
9.2.5 扫描驱动电路
9.3 TFT-LCD电路设计
9.3.1 电路原理图设计
9.3.2 PCB和COF版图设计
9.3.3 COF设计
9.3.4 伽马设计与调节
本章参考文献
第10章 TFT-LCD结构技术与设计
10.1 结构技术与设计概要
10.1.1 结构技术概要
10.1.2 结构设计概要
10.2 模组的结构设计
10.2.1 开路显示屏结构设计
10.2.2 胶框设计
10.2.3 导光板设计
10.2.4 光学膜片设计
10.2.5 CCFL光源的结构设计
10.2.6 LED光源的结构设计
10.3 背光源的光学设计
10.3.1 光学设计基础
10.3.2 亮度设计
10.3.3 亮度均匀性设计
10.3.4 光学品质设计
10.4 模组的力学设计
10.4.1 强度设计
10.4.2 散热设计
10.4.3 防尘设计
10.5 模组的电学设计
10.5.1 EMI设计
10.5.2 绝缘耐压设计
10.6 模组的其他设计
10.6.1 组装设计
10.6.2 安全性设计
本章参考文献
第11章 高品质和低成本设计
11.1 面向光学规格的高品质设计
11.1.1 高亮度设计
11.1.2 高对比度设计
11.1.3 高响应速度设计
11.2 面向特殊画质的高品质设计
11.2.1 闪烁机理与设计对策
11.2.2 串扰机理与设计对策
11.2.3 显示不均的机理与设计对策
11.3 高合格率设计
11.3.1 工程检查及相关设计
11.3.2 ESD改善设计
11.3.3 点缺陷修复设计
11.3.4 线缺陷修复设计
11.4 低成本设计
11.4.1 掩膜版消减技术
11.4.2 驱动IC消减技术
11.4.3 背光源零组件消减技术
本章参考文献
第12章 半透过型TFT-LCD设计
12.1 反射型TFT-LCD原理与设计
12.2 半透过型TFT-LCD原理与设计
12.3 半透过型TFT-LCD的反射光学设计
12.3.1 内反射光学设计
12.3.2 外反射光学设计
12.4 半透过型TFT-LCD的偏光光学设计
12.4.1 ECB常白模式的偏光光学设计
12.4.2 ECB常黑模式的偏光光学设计
本章参考文献
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